W5型全譜直讀光譜分析儀可以廣泛適用于鐵基、鋁基、銅基、鎳基、鋅基、鈦基、鈷基、鎂基、錫基、鉛基等金屬樣品的成分分析。無論從低含量元素還是到高含量的元素，它都能準確、可靠的分析。W5型全譜直讀光譜儀擁有的分析性能、極短的分析時間，極低的運行維護成本，智能化的操作模式，使樣品分析簡單易行。

一、性能好的光學系統

帕邢-龍格結構凹面光柵，全譜覆蓋，滿足客戶對全元素檢測的需求。

直射式光學技術及采用MgF材料制作的光學器件，保證紫外區域的性能。

高分辯率多CMOS讀出系統，較低的暗電流，較好的檢出限，較高的穩定性，較強的靈敏度，滿足N的分析要求。

二、智能數字激發光源

W5型全譜直讀光譜分析儀采用全數字化智能復合光源DDD技術，帶來好的分析性能。

緊湊的設計及半導體控制技術，使得光源具有較好的穩定性、更強的可靠性。

高能預燃技術（HEPS),激發參數調整，充分滿足不同基體、不同樣品以及不同分析元素的激發要求。

三、智能樣品激發臺設計

激發臺直接將激發光導入光學系統。

開放式樣品臺，滿足大樣品測試要求。

變換電極可對小樣品及復雜幾何形狀樣品分析有較好的性能。

視頻識別技術，確保樣品臺激發安全，可監測樣品臺的全景。

四、智能集成氣路模塊

智能氬氣流設計及粉塵收集清理裝置

氬氣噴射技術，有效消除激發過程中等離子體的飄移，確保CCD檢測器能夠觀測高溫區域光信號，提高精度和穩定性。

激發后，脈沖式氬氣吹掃，提高粉塵去除效果，提升儀器的短期和長期穩定性。

五、智能真空測量和控制

真空系統*程控，在保證真空度的同時減少真空泵的運行時間。

雙級設置，在儀器不運行的情況下，開啟待機真空運行狀態。

多級真空隔離措施及增加濾油裝置，保障光學元器件在可靠的環境中工作。

六、透鏡清理裝置

不銹鋼真空球閥，在清理透鏡時有良好的隔離效果。

單板式透鏡設計，拆裝方便。

交叉機械裝置，在未解除隔離的情況有效保護光學系統。
七、計算機及讀出系統

計算機與手機（或PAD)可同步顯示，方便面板操作。

高分辯率多CMOS讀出系統及FPGA、DSP和ARM技術，進行數據采集。

以太網和TCP/IP協議，數據傳輸高速、可靠。

數據可遠程傳輸，全面實現網絡化。實時方便對儀器運行狀態的監測和控制。

數據可進行云打印。

八、光譜分析軟件

光譜儀制作標準的光譜儀軟件，操作界面人性化，功能標準化。

儀器在軟件中配備多條工廠校正曲線及更多材質分析方法和*的解決方案。

可根據用戶的材料要求，可現場延長標準曲線的測量上、下限。